2020-03-29 关于中国顺利超强分辨率光刻机的新闻刷爆了朋友圈，这个新闻出来以后，舆论经常出现了两个极端，一堆人说道很牛，一堆人说道吹牛。那么这两种众说纷纭究竟谁对谁错呢？我们再行看一下新闻：由中国科学院光电技术研究所主导的项目“超强辨别光刻装备研制”29日通过竣工验收。

这是我国顺利研制出的世界首台分辨力最低紫外超强辨别光刻装备。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力超过22纳米，融合多重曝光技术后，可用作生产10纳米级别的芯片。中科院化学系技术研究所许祖彦院士等验收组专家完全一致回应，该光刻机在365nm光源波长下，单次曝光最低线宽分辨力超过22nm。项目在原理上突破分辨力散射无限大，创建了一条高分辨、大面积的纳米光刻装备研发新的路线，跨过了国外涉及知识产权壁垒。

为超强材料／超强表面、第三代光学器件、广义芯片等变革性战略领域的跨越式发展获取了生产工具。项目副总设计师胡松讲解，中科院光电所此次通过竣工验收的表面等离子体超强辨别光刻装备，超越了传统路线格局，构成一条全新的纳米光学光刻技术路线，具备几乎自律知识产权。目前利用研制成功的超强辨别光刻装备已制取出有一系列纳米功能器件，还包括大口径薄膜镜、超导纳米线单光子探测器、托伦科夫电磁辐射器件、生化传感芯片、超强表面光学器件等，检验了该装备纳米功能器件加工能力，已超过实用化水平。

超强辨别光刻设备加工的4英寸光刻样品光刻机是生产芯片的核心装备，我国在这一领域长年领先。它使用类似于照片底片的技术，把母版上的细致图形通过曝光移往至硅片上，一般来说，光刻分辨力越高，加工的芯片集成度也就越高。

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